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The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統，它使用高密度等離子體來執行光電器件和電子元件所需的化合物半導體蝕刻。
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系統配置
應用場景 |
尺寸
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GaN Power Device |
GaAs VCSEL |
InP Laser |
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設備參數
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常務需求
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The RIE-400iP是一種高性能電感耦合等離子體(ICP)蝕刻系統，它使用高密度等離子體來執行光電器件和電子元件所需的化合物半導體蝕刻。
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系統配置
應用場景 |
尺寸
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GaN Power Device |
GaAs VCSEL |
InP Laser |
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設備參數
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常務需求
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