反應離子刻蝕機是一種用于信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器，它利用射頻電源在上下電極間產生輝光放電，使反應氣體分子被電離生成等離子體，然后通過化學和物理反應來移除襯底表面的材料。
反應離子刻蝕機具有以下特點：
- 固態射頻發生器和近距離耦合匹配網絡，可實現快速且一致的刻蝕
- 全局域的工藝氣體進氣噴頭實現了均勻的氣體分布
- 電極溫度可調節，范圍為-150℃至+400℃
- 高抽氣速率能夠提供較寬的工藝氣壓窗口
- 晶圓壓盤與背氦制冷提供了更佳的晶片溫度控制
- 可刻蝕各種材料，如金屬、半導體、介質等
反應離子刻蝕機在微納加工領域有著廣泛的應用，如制備微型傳感器、微型馬達、微型光學器件等。它可以實現高度各向異性的刻蝕，即沿垂直方向刻蝕速率遠大于沿水平方向刻蝕速率，從而保證了圖形的精確轉移和高方面比。
